可控气氛箱式高温炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用耐温硅胶、炉门采用硅胶垫，气体经过流量计后由后膛进出，有多处炉膛进出气口，可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，

更新日期：2024-05-20

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小型箱式气氛炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用耐温硅胶、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处炉膛进出气口，可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气

更新日期：2024-05-20

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箱式气氛保护高温炉 适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。

更新日期：2024-05-20

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预抽真空气氛炉应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

更新日期：2024-05-20

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实验室真空气氛炉应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

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气氛箱式实验电炉是针对产品需要气氛保护面设计的特殊炉型。炉膛你可以通惰性气体、氢气、氮气、也可抽成真空。炉型也有箱式、立式、卧式、管式、升降式多种。气路可按需要配置各种阀门、流量计、压力表等、可以检测控制气体的各种物理量。

更新日期：2024-05-20

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