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密真空气氛炉

简要描述：密真空气氛炉广泛用于高校、科研院所、工矿企业等做粉末、电子、冶金、医药、陶瓷、新材料、化工、金属烧结和金属热处理等实验和生产理想设备。

厂商性质：生产厂家
更新时间：2024-05-18
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产品介绍

品牌	中奥菲达	升温速度（达到最高温）	60/min
内部尺寸	300-200-120mm	加热方式	硅碳棒
最大功率	4000kW	控温精度	1℃
最高温度	1400℃	价格区间	1万-2万
仪器种类	真空炉	产地类别	国产
应用领域	医疗卫生,环保,生物产业,综合

适用范围
本设备广泛用于高校、科研院所、工矿企业等做粉末、电子、冶金、医药、陶瓷、新材料、化工、金属烧结和金属热处理等实验和生产理想设备。

密真空气氛炉真空气氛系统：
真空密封系统采用特种设计技术，具有操作安全、方便、真空度高，密封性好，真空保持时间长，密封采用不锈钢金属法兰及O型耐高温氟胶圈密封，气体经过流量计后由针型阀开关进入炉管内，阀控配有进气阀，排气、抽真空阀。减压阀，安全阀，可通多种气体、氩气、氮气、氧气、氧化碳、氨分解气等气体，可充入高压气体，气氛压力限值0.1MPa，采用*的密封技术，可长时间保压，安全性能好，操作方便。

密真空气氛炉主要技术参数：

项目	单位	有效使用尺寸	有效使用尺寸			有效使用尺寸		有效使用尺寸
炉膛尺寸	mm	200X150X150	300X200X200			500X300X200		500X500X500
温度类别	℃	1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃
控制度	℃	±1℃
温度均匀度	℃	≤1		≤1℃	≤1.5℃		≤2℃
加热元件		根据温度而定，采用电阻丝、硅碳棒、硅钼棒、石墨。
电压/频率	AC/Hz	220/50		380/50	380/50		380/50
设计功率	KW	4		10	15		25
温控方式		微电脑智能调节技术，具有PID调节、全自动控制、自整定功能，多段程序编程，并可编制各种升温、保温、降温程序，控温度高；集成模块可控硅控制、移相触发。
保护装置	独立超温保护、超压、超流、漏电、短路等保护，自动化程度较高，
主要附件	高温手套，坩埚钳，发热元件，门堵，合格证，说明书，质保书。
可选配	无纸记录仪，有纸记录仪，电脑液晶触摸屏，人机画面通讯联机功能，多台设备台电脑控制，打印与保存数据，实现操作简单方便，实时可查看与保存数据。