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  • 卧式气氛管式炉
    卧式气氛管式炉

    卧式气氛管式炉主要用途:陶瓷,冶金,电子,玻璃,化工,机械,耐火材料,特种材料,建材,高校,科研院所,工矿企业做粉末焙烧,陶瓷烧结,高温实验,材料处理,质高校,科研院所,工矿企业做高温气氛烧结,气氛还原,CVD实验,真空退火等。

    更新日期:2024-05-20
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  • 管式真空气氛烧结炉
    管式真空气氛烧结炉

    管式真空气氛烧结炉,额定温度分别为1100℃,1400℃,1600℃,1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结,玻璃的退火与微晶化,晶体的退火,陶瓷釉料制备,粉末冶金,纳米材料的烧结,金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位,高等院校,工矿企业理想的实验和生产设备。

    更新日期:2024-05-20
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  • 1600℃管式气氛炉
    1600℃管式气氛炉

    1600℃管式气氛炉炉膛采用高纯度氧化铝纤维炉膛;炉膛表面涂有高温氧化铝涂层,炉膛的洁净,延长炉体使用寿命;炉体采用双层风冷结构;温控系统采用PID方式调节温度,可以设置50段升降温程序,高工作温度可以达到1600℃;是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的理想设备

    更新日期:2024-05-20
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  • 1400℃单温区管式炉
    1400℃单温区管式炉

    1400℃单温区管式炉炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维一体式炉膛;炉膛表面涂有高温氧化铝涂层,炉膛的洁净,延长炉体使用寿命;炉体采用双层风冷结构;温控系统采用PID方式调节温度,可以设置50段升降温程序,工作温度可以达到1400℃;是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的理想设备。

    更新日期:2024-05-20
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  • 一体式真空管式炉
    一体式真空管式炉

    一体式真空管式炉炉膛采用高纯度氧化铝纤维炉膛;炉膛表面涂有高温氧化铝涂层,炉膛的洁净,延长炉体使用寿命;炉体采用双层风冷结构;温控系统采用PID方式调节温度,可以设置50段升降温程序,高工作温度可以达到1400℃;是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的理想设备

    更新日期:2024-05-20
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  • 1200℃管式气氛炉
    1200℃管式气氛炉

    1200℃管式气氛炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30 段程序控 温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本三菱氧化铝 多晶纤维材料,炉膛分为上下两个半圆,需要急 速冷却或换管子时,可以打开炉膛,双层炉壳间 配有风冷系统,能快速升降温,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿 企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD 实验、真空退火用的理想产品。

    更新日期:2024-05-20
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