高温气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，炉管下方配有支架，有效防止炉管两端高温变形断裂；可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

更新日期：2024-05-18

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1400℃双温区管式气氛炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。是奥菲达仪器自行研制开发的高性能高节能的新型管式电炉，产品具有合理的结构，升温快，操作简便，密封性能好，可预抽真空，真空能保持较长时间，也可以保持微正压。

更新日期：2024-05-18

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￥13500

小型立式管式炉是河南奥菲达仪器专为针对粉末表面沉积的CVD实验开发而成的，采用高纯氧化铝纤维制炉膛，炉体结构为保温层两半开启式,集控制系统与炉膛为体，可在垂直和水平等多个工位下工作。该炉炉管可旋转各个角度，操作简单、控温度高、保温效果好、炉膛温度均匀性高、可通气氛抽真空等特点。

更新日期：2024-05-18

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迷你型真空气氛管式炉采用双层壳体结构，炉膛材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。 适用范围：主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛

更新日期：2024-05-18

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1400℃真空管式炉技术参数： 用途概述：管式炉采技术，有单管、卧式、可开启式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。具有安全可靠、操作简单、控温度高、保温效果好、温度范围大、温场均匀性高、温区多，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的理想产品. 为实验单位提供具有真空、可控气氛及高温的实验条件下做元素分析、物理测定、等加热实验。并应用在半导体、纳米、碳纤维

更新日期：2024-05-18

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可倾斜式高温管式炉可360度旋转，管壁内有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结的更均匀，用于电池正负材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料选择在真空下或者气氛保护下进行烧制。连接气路管道的情况下依然可以旋转石英管。

更新日期：2024-05-18

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￥10350