真空气氛烧结炉以电阻丝，硅碳棒，硅钼棒为加热元件，采用双层不锈钢壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用进口氧化铝材料，双层炉壳间配有风冷系统。炉体采用整体密封，炉门采用高温硅胶密封，气体经过流量计后由炉罐进入，并有多处进气口，可以通氢气、氮气等气体，并能抽真空。

更新日期：2024-05-18

访问次数：1076

￥11580

气氛箱式炉技术指标： 1．额定温度：1350℃。 2．常用温度: 1300℃。 3．炉膛尺寸：400×300×300 mm（L×W×H）。 4．有效工作尺寸：300×260×260 mm（L×W×H）。 5．加热方式：上下加热。（暗火加热） 6．温度仪表：可编程序控制（40段程序）。 7．控制方式：可控硅移相调压。

更新日期：2024-05-18

访问次数：863

￥11500

箱式气氛炉厂家具有以下优点： 外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。 炉门采用加厚、加固处理，防止变形。 可观性强，为实验室产品。 炉门开启采用铰链联接，炉门密封采用耐高温硅胶圈真空密封。 控温仪表采用智能数显仪表，双LED显示，控温度高，操作方便。 电炉带有PID自整定功能，具有超温报警断电加热功能，可无人值守。

更新日期：2024-05-18

访问次数：1065

￥9950

密真空气氛炉广泛用于高校、科研院所、工矿企业等做粉末、电子、冶金、医药、陶瓷、新材料、化工、金属烧结和金属热处理等实验和生产理想设备。

更新日期：2024-05-18

访问次数：875

￥12800

1400型气氛马弗炉主要为高等院校，科研院所等单位的实验室选提供具有真空、可控气氛及高温的试验环境，应用在半导体,电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀（CVD）、镀膜等新材料新工艺领域。

更新日期：2024-05-18

访问次数：1117

￥12500

1200型气氛马弗炉是针对实验室日常应用研发的，的焙烧效果、现代化的外型设计及高度的可靠性是此类电炉的突出特色。产品采用高温合金为加热元件，炉膛采用氧化锆多晶体纤维材料。采用微电脑微电脑控制，操作方便，可编程，自动升温、自动保温、自动降温。

更新日期：2024-05-18

访问次数：1271

￥6500